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主分類

分類號(hào)	描述

G	物理

G03	攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)		查看

G03F	圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備		查看

G03F1-00	用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備		查看

	G03F1-20	.用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備	查看

	G03F1-22	.用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外	查看

	G03F1-26	.相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備	查看

	G03F1-36	.具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝	查看

	G03F1-38	.具有輔助特征的掩膜，例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記；其制備	查看

	G03F1-50	.未包含在G03F 1/20-G03F 1/26組中的空白掩膜；其制備	查看

	G03F1-52	.反射鏡	查看

	G03F1-54	.吸收劑，例如不透明材料	查看

	G03F1-60	.基板	查看

	G03F1-62	.薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制備	查看

	G03F1-66	.專門適用于掩膜，空白掩膜或薄膜的容器；其制備	查看

	G03F1-68	.未包含在G03F 1/20至G03F 1/50組中的制備工藝	查看

	G03F1-88	.通過制備具有模擬浮雕的原版的照相過程的制備	查看

	G03F1-90	.采用蒙太奇方法制備	查看

	G03F1-92	.從印刷表面制備	查看

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