[发明专利]原子层沉积装置和原子层沉积方法在审
| 申请号： | 202210319589.6 | 申请日： | 2022-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN116926505A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 周向前 | 申请（专利权）人： | 前微科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 上海上谷知识产权代理有限公司 31342 | 代理人： | 胡五荣 |
| 地址： | 201206 上海市浦东新区中国（*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种原子层沉积装置和原子层沉积方法，原子层沉积装置包括第一反应床主体、第二反应床主体、一对第一高压装置、一对第二高压装置和一对工作装置，第一反应床主体和第二反应床主体沿第一方向相对间隔设置，待加工件可操作地位于第一反应床主体和第二反应床主体之间，且可操作地沿第二方向移动；第一高压装置和第二高压装置分别具有第一出气口和第二出气口，各第一出气口和各第二出气口沿第一方向相对设置；工作装置具有目标气体出口，一对工作装置的两个目标气体出口沿第一方向相对间隔设置。通过第一高压装置和第二高压装置所喷射出的气体能够沿夹持住待加工件，因此第一高压装置和第二高压装置不用与待加工件直接接触污染待加工件。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
