[发明专利]二次真空压力测量装置及测量残留真空压力的嵌入式系统在审
| 申请号： | 202280017040.X | 申请日： | 2022-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN116940820A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | A·哈琴科 | 申请（专利权）人： | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号： | G01L21/34 | 分类号： | G01L21/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 金飞;郭帆扬 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于测量二次真空压力的紧凑装置以及包括这种装置的嵌入式系统。该装置和系统特别适于用来在平面基板上沉积薄膜堆叠的生产线上诊断隔室中的真空压力。本发明还公开了一种用于诊断用来沉积薄膜的生产线中的真空的方法，并且其中使用嵌入式真空控制系统。 | ||
| 搜索关键词： | 二次 真空 压力 测量 装置 残留 嵌入式 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于法国圣戈班玻璃厂，未经法国圣戈班玻璃厂许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202280017040.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：控制装置
- 下一篇：基于远程用户视场的相机定向
