[发明专利]一种CVD炉的炉底盘离合机构在审
| 申请号： | 202310749533.9 | 申请日： | 2023-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN116928233A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 刘伟;贺贤汉;夏孝平 | 申请（专利权）人： | 上海汉虹精密机械有限公司 |
| 主分类号： | F16D11/00 | 分类号： | F16D11/00;F16D25/12;C23C16/00 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 赵建敏 |
| 地址： | 200444 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种CVD炉的炉底盘离合机构，包括炉桶主体，炉桶主体的中下炉体与炉盘底之间安装有两组离合机构，每组离合机构包括一气缸安装座，气缸安装座固定在中下炉体的外壁，气缸安装座通过轴销和气缸的缸体连接，气缸的活塞杆通过销轴与气缸接头连接座连接，炉盘底的外边缘设有离合环，气缸接头连接座固定在离合环上；炉盘底上固定有第一固定块，离合环上固定有第二固定块，第一固定块与第二固定块设有啮合的楔形面，离合环上安装有一导向板，导向板的外侧通过卡口卡在离合环上，且通过螺钉固定；中下炉体上还安装有行程开关，离合环上固定有与行程开关相对应的开关限位块。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 底盘 离合 机构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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