[发明专利]一种酸性清洗液在审

专利信息
申请号: 202310795372.7 申请日: 2023-06-30
公开(公告)号: CN116925854A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 王溯;马丽;刘松;张磊磊;梁业成 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: C11D1/22 分类号: C11D1/22;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/34;C11D3/60
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 蒲小秋;陈卓
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种酸性清洗液。本发明的酸性清洗液的原料包括下列质量分数的组分:0.1‑4%有机胺、0.1‑9%酸、氟化物、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂和水,水补足余量,各组分质量分数之和为100%;所述的表面活性剂为磺酸盐类阴离子表面活性剂;所述的酸与所述的有机胺的质量比为(1‑3):1。本发明的酸性清洗液具有如下的一个或多个优点:具有较好的清洗效果,可以抑制半导体晶圆的损伤,具有较好的BTA清除效果。
搜索关键词: 一种 酸性 清洗
【主权项】:
暂无信息
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