[发明专利]一种酸性清洗液在审
申请号: | 202310795372.7 | 申请日: | 2023-06-30 |
公开(公告)号: | CN116925854A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 王溯;马丽;刘松;张磊磊;梁业成 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | C11D1/22 | 分类号: | C11D1/22;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/34;C11D3/60 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 蒲小秋;陈卓 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种酸性清洗液。本发明的酸性清洗液的原料包括下列质量分数的组分:0.1‑4%有机胺、0.1‑9%酸、氟化物、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂和水,水补足余量,各组分质量分数之和为100%;所述的表面活性剂为磺酸盐类阴离子表面活性剂;所述的酸与所述的有机胺的质量比为(1‑3):1。本发明的酸性清洗液具有如下的一个或多个优点:具有较好的清洗效果,可以抑制半导体晶圆的损伤,具有较好的BTA清除效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 酸性 清洗 | ||
【主权项】:
暂无信息
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