[发明专利]一种自聚焦涡旋自旋太赫兹发射器及应用在审

专利信息
申请号: 202310850098.9 申请日: 2023-07-11
公开(公告)号: CN116937295A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 张晓强;许涌;张帆;张悦;赵巍胜 申请(专利权)人: 北京航空航天大学合肥创新研究院
主分类号: H01S1/02 分类号: H01S1/02;G02B5/18
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 汪贵艳
地址: 230013 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种自聚焦涡旋自旋太赫兹发射器及应用,包括玻璃衬底、自旋太赫兹薄膜、磁铁对,自旋太赫兹薄膜是由铁磁材料层和重金属非磁材料层A以及重金属非磁材料层B组成,其中铁磁材料层设置在玻璃衬底的上表面,重金属非磁材料层A、重金属非磁材料层B呈螺旋状交替排列分布在铁磁材料层的外表面。本发明结构简单,通过在铁磁材料上制备特殊排布的两种自旋霍尔角大小相等、方向相反的重金属非磁材料层,构建螺旋自旋太赫兹菲涅尔波带片,使得产生的涡旋自旋太赫兹波具有汇聚功能,提升涡旋自旋太赫兹发射器的集成度。
搜索关键词: 一种 自聚焦 涡旋 自旋 赫兹 发射器 应用
【主权项】:
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