[发明专利]一种碳化硅晶片集中清洗设备及集中清洗方法在审
| 申请号： | 202310951602.4 | 申请日： | 2023-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN116921337A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 钟超;贺贤汉;高攀;陈辉;章磊 | 申请（专利权）人： | 安徽微芯长江半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司： | 铜陵市天成专利事务所(普通合伙) 34105 | 代理人： | 李坤 |
| 地址： | 244000 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种碳化硅晶片集中清洗设备及集中清洗方法，包括清洗室、集中清洗夹具等装置，其中集中清洗夹具包括第一清洗夹具以及第二清洗夹具,在碳化硅晶片集中放置完毕后，通过控制第一清洗夹具翻转至第二清洗夹具上方让二者位置对应能够形成清洗区域，在清洗的过程中能够控制晶片在清洗区域内移动，让碳化硅晶片不同的位置与清洗区域内不同内壁相接触，能够让碳化硅晶片周向的边缘部分均裸露于清洗区域内，能够提高兆声清洗设备对晶片边缘部分的清洗效果，避免污染物质残留。该发明能够在碳化硅晶片清洗的过程中通过偏转夹具的方式让碳化硅晶片位置发生偏转，加强了对其底端边缘位置的清洁效果，提高了整体清洁效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碳化硅 晶片 集中 清洗 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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